Transparent articles comprising transparent, nonmetallic substrate and a transparent film stack is sputter deposited on the substrate. The film stack is characterized by including at least one infrared reflective metal film, a dielectric film over the metal film, and a protective silicon nitride film of 10 .ANG. to 150 .ANG. in thickness over the said dielectric film. The dielectric film desirably has substantially the same index of refraction as does silicon nitride and is contiguous with the silicon nitride film.

Die transparenten Artikel, die transparentes, nicht-metallisches Substrat und einen transparenten Filmstapel enthalten, ist spritzen niedergelegt auf dem Substrat. Der Filmstapel wird gekennzeichnet, indem man mindestens einen reflektierenden Metallinfrarotfilm, einen dielektrischen Film über dem Metallfilm und einem schützenden Silikonnitridfilm von ANG 10 mit einschließt. zu ANG 150. in der Stärke über dem besagten dielektrischen Film. Der dielektrische Film hat wünschenswert im wesentlichen das gleiche Brechungsindex, wie Silikonnitrid und mit dem Silikonnitridfilm angrenzend ist.