The invention includes polymers that contain a heterocyclic ring, preferably an oxygen-or sulfur-containing ring. The heterocyclic ring is preferably fused to the polymer backbone. The invention also provides photoresists that contain such polymers, particularly for imaging at short wavelengths such as sub-200 nm.

L'invention inclut les polymères qui contiennent un anneau hétérocyclique, de préférence oxygène-ou l'anneau contenant du soufre. L'anneau hétérocyclique est de préférence fondu à l'épine dorsale de polymère. L'invention fournit également les vernis photosensibles qui contiennent de tels polymères, en particulier pour la formation image aux longueurs d'onde courtes telles que sub-200 nm.