Amorphous silicon carbide thin film structures, including: protective coatings for windows in infrared process stream monitoring systems and sensor domes, heated windows, electromagnetic interference shielding members and integrated micromachined sensors; high-temperature sensors and circuits; and diffusion barrier layers in VLSI circuits. The amorphous silicon carbide thin film structures are readily formed, e.g., by sputtering at low temperatures.

Estructuras amorfas de la película fina del carburo del silicio, incluyendo: las capas protectoras para las ventanas en los sistemas de supervisión de la corriente y las bóvedas de proceso infrarrojos del sensor, ventanas calentadas, interferencia electromágnetica que blindaba a miembros e integrada micromachined los sensores; sensores y circuitos de alta temperatura; y capas de barrera de difusión en circuitos del VLSI. Las estructuras amorfas de la película fina del carburo del silicio son formadas fácilmente, e.g., farfullando en las bajas temperaturas.