An EUV-transparent interface structure for optically linking a first closed chamber (80) and a second closed chamber (70) whilst preventing a contaminating flow of a medium and/or particles from one chamber to the other comprises an EUV-transparent member (60) in the form of a membrane (60) or a channel structure (100). An EUV-transparent (inert) gas (68) is forced to flow at the side of the member facing the source of contamination (LA; W) and towards the source of contamination to keep the contaminating particles away from the member (60; 100). The interface structure may be arranged between an EUV radiation source (LA) and the illuminator optics (IL) and/or between the projection system (PL) and the resist layer (RL) on top of a substrate (W) in a lithographic projection apparatus.

Μια εuβ-διαφανής δομή διεπαφών για οπτικά να συνδέσουν μια πρώτη κλειστή αίθουσα (80) και μια δεύτερη έκλεισαν την αίθουσα (70) ταυτόχρονα αποτρέποντας μια ροή μόλυνσης ενός μέσου ή/και τα μόρια από μια αίθουσα σε άλλη περιλαμβάνουν ένα εuβ-διαφανές μέλος (60) υπό μορφή μεμβράνης (60) ή δομής καναλιών (100). Εuβ-διαφανές (αδρανές) αέριο (68) αναγκάζεται να ρεύσει στην πλευρά του μέλους που αντιμετωπίζει την πηγή μόλυνσης (Λα Θ*Ω) και προς την πηγή μόλυνσης για να κρατήσει τα μολύνοντας μόρια μακρυά από το μέλος (60 100). Η δομή διεπαφών μπορεί να τακτοποιηθεί μεταξύ μιας πηγής ακτινοβολίας EUV (LA) και η οπτική (IL) φωτιστικών ή/και μεταξύ του συστήματος (PL) προβολής και αντιστέκεται στο στρώμα (RL) πάνω από ένα υπόστρωμα (W) σε μια λιθογραφική συσκευή προβολής.