A chemical amplification, positive resist composition is provided comprising (A) a photoacid generator and (B) a resin which changes its solubility in an alkali developer under the action of acid and has substituents of the formula: Ph--(CH.sub.2).sub.n OCH(CH.sub.2 CH.sub.3)-- wherein Ph is phenyl and n=1 or 2. The composition has many advantages including improved focal latitude, improved resolution, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, minimized defect left after coating, development and stripping, and improved pattern profile after development and is suited for microfabrication by any lithography, especially deep UV lithography.

Een chemische versterking, positief verzet zich tegen samenstelling wordt verstrekt bestaand (A) uit een photoacidgenerator en (B) uit een hars die zijn oplosbaarheid in een alkaliontwikkelaar onder de actie van zuur verandert en substituenten van de formule heeft: PH -- (CH.sub.2).sub.n OCH(CH.sub.2 CH.sub.3) - - waarin PH en n=1 of 2 phenyl is. De samenstelling heeft vele voordelen met inbegrip van betere brandpuntsbreedte, betere resolutie, minimaliseerde de variatie van de lijnbreedte of vormdegradatie zelfs op PED op lange termijn, minimaliseerde tekort verlaten na deklaag, ontwikkeling en het ontdoen van, en beter patroonprofiel na ontwikkeling en voor microfabrication door om het even welke lithografie, vooral diepe UVLITHOGRAFIE verlaten.