A resist composition is prepared by reacting an alkali-soluble polymer having a phenolic hydroxyl or carboxyl groups with a vinyl ether compound in an aprotic solvent, such as propylene glycol monomethyl ether acetate, in the presence of an acid catalyst, suspending the reaction by the addition of a base, and directly adding a photoacid generator to the reaction solution. When a dialkyl dicarbonate is used in stead of the vinyl ether compound, a resist composition is prepared by carrying out the reaction in the presence of a basic catalyst and adding a photoacid generator directly to the reaction. Thus resist compositions can be prepared without isolating or purifying an alkali-soluble polymer which has been substituted by a catalytic reaction.

Verzet me tegen samenstelling wordt voorbereidingen getroffen door een reagerend alkali-soluble polymeer dat een phenolic hydroxyl of carboxyl groepen met een vinylethersamenstelling heeft in een aprotic oplosmiddel, zoals monomethyl de etheracetate van de propyleenglycol, in aanwezigheid van een zure katalysator die, die de reactie door de toevoeging van een basis opschort, en direct een photoacidgenerator toevoegt aan de reactieoplossing. Wanneer een dialkyl dicarbonaat in plaats van de vinylethersamenstelling wordt gebruikt, verzet me tegen samenstelling wordt voorbereidingen getroffen door de reactie in aanwezigheid van een basiskatalysator uit te voeren en een photoacidgenerator rechtstreeks toe te voegen aan de reactie. Verzet me aldus tegen samenstellingen kan worden voorbereidingen getroffen zonder het isoleren van of een alkali-soluble polymeer te zuiveren dat door een katalytische reactie is gesubstitueerd.