The present invention is an admixture of an electrically conductive
material and an energy sensitive material resulting in a conductive energy
sensitive composition. The structures are useful for lithography in
microelectronic fabrication to avoid the effects of charging on resists
from electron beams. The compositions are also useful in applications of
scanning electron metrology and static dissipation.
Die anwesende Erfindung ist eine Beimischung eines elektrisch leitenden Materials und des empfindlichen Materials der Energie, resultierend in einem empfindlichen Aufbau der leitenden Energie. Die Strukturen sind nützlich für Lithographie in der Mikroelektronischen Herstellung, die Effekte von an aufladen zu vermeiden widersteht von den Elektronenstrahlen. Der Aufbau ist auch in den Anwendungen von Abtastungelektronmetrologie und von statischer Ableitung nützlich.
