A photosensitive lithographic printing plate comprises a photosensitive
layer and a protective layer formed in this order on a support, wherein
the photosensitive layer has a maximum peak of spectral sensitivity within
a wavelength range ranging from 390 to 430 nm, the minimum exposure for
the photosensitive lithographic printing plate for image formation at a
wavelength of 410 nm (S410) is at most 100 .mu.J/cm.sup.2, and the
relation between the minimum exposure for image formation at a wavelength
of 450 nm (S450) and the minimum exposure for image formation at a
wavelength of 410 nm (S410) is 0
Une plaque d'impression lithographique photosensible comporte une couche photosensible et une couche protectrice formée dans cet ordre sur un appui, où la couche photosensible a une crête maximum de sensibilité spectrale dans une gamme de longueurs d'onde s'étendant de 390 à 430 nm, l'exposition minimum pour la plaque d'impression lithographique photosensible pour la formation d'image à une longueur d'onde de 410 nm (S410) est tout au plus le mu.J/cm.sup.2 100, et la relation entre l'exposition minimum pour la formation d'image à une longueur d'onde de 450 nm (S450) et l'exposition minimum pour la formation d'image à une longueur d'onde de 410 que nm (S410) est 0
