For allowing processing of a material into an intended three-dimensional
configuration having different processed depths while suppressing an
influence exerted on a processed configuration by a configuration of a
transparent portion, a processing device includes an SR light source 1 for
emitting SR light, an X-ray mask having a transparent portion of a
predetermined configuration for passing the X-rays emitted from the SR
light source 1, and exposure stage 3 for oscillating the X-ray mask and
the material relatively to each other in accordance with a movement
pattern determined based on the processing configuration of the processing
material for moving the X-ray mask and the material relatively to each
other and thereby oscillating the region where the material is irradiated
with the X-ray passed through the transparent opening.
Для позволять обрабатывать материала в предназначенную трехмерную конфигурацию имея по-разному обрабатываемые глубины пока подавляющ влияние приложенное на обрабатываемой конфигурации конфигурацией прозрачной части, обрабатывая приспособление вклюает источник света 1 SR для испускать свет SR, маску рентгеновского снимка имея прозрачную часть предопределенной конфигурации для проходить рентгеновские снимки испущенные от источника света 1 SR, и этап 3 выдержки для осциллировать маска рентгеновского снимка и материал относительно to each other в соответствии с обусловленной картиной движения основанной на обрабатывая конфигурации обрабатывая материала для двигать маску рентгеновского снимка и материала относительно to each other и таким образом осциллировать зона где материал облучен при рентгеновский снимок пропущенный через прозрачное отверстие.
