One embodiment of the invention provides a system that automatically
resolves conflicts between phase shifters during creation of a phase
shifting mask to be used in an optical lithography process for
manufacturing an integrated circuit. Upon receiving a specification of a
layout on the integrated circuit, the system identifies critical-dimension
features within the layout. Next, the system places phase shifters
comprised of phase shifting geometries on the phase shifting mask to
precisely define the critical-dimension features. In doing so, the system
identifies junctions within and/or between the critical-dimension
features, and removes phase shifting geometries associated with the
junctions to obviate coloring conflicts between phase shifters on the
phase shifting mask. In one embodiment of the invention, the junctions
include T-junctions and/or L-junctions.
Μια ενσωμάτωση της εφεύρεσης παρέχει ένα σύστημα που επιλύει αυτόματα τις συγκρούσεις μεταξύ των μοχλών μετατόπισης φάσης κατά τη διάρκεια της δημιουργίας μιας φάσης που μετατοπίζει τη μάσκα που χρησιμοποιείται σε μια οπτική διαδικασία λιθογραφίας για ένα ολοκληρωμένο κύκλωμα. Επάνω στη λήψη μιας προδιαγραφής ενός σχεδιαγράμματος στο ολοκληρωμένο κύκλωμα, το σύστημα προσδιορίζει τα χαρακτηριστικά γνωρίσματα κρίσιμος-διάστασης μέσα στο σχεδιάγραμμα. Έπειτα, το σύστημα τοποθετεί τους μοχλούς μετατόπισης φάσης που αποτελούνται από τη φάση που μετατοπίζει τη γεωμετρία στη φάση που μετατοπίζει τη μάσκα για να καθορίσει ακριβώς τα χαρακτηριστικά γνωρίσματα κρίσιμος-διάστασης. Με αυτό τον τρόπο, το σύστημα προσδιορίζει τις συνδέσεις μέσα ή/και μεταξύ στα χαρακτηριστικά γνωρίσματα κρίσιμος-διάστασης, και αφαιρεί τη φάση που μετατοπίζει τη γεωμετρία που συνδέεται με τις συνδέσεις για να προλάβει τις συγκρούσεις χρωματισμού μεταξύ των μοχλών μετατόπισης φάσης στη φάση που μετατοπίζει τη μάσκα. Σε μια ενσωμάτωση της εφεύρεσης, οι συνδέσεις περιλαμβάνουν τις διασταυρώσεις ή/και τις λ-συνδέσεις.
