A semicustom IC including a plurality of basic cells disposed on a
semiconductor substrate, a first macrocell, a second macrocell adjacent to
the first macrocell, and a power supply line. The first macrocell and the
second macrocell are each formed using at least one basic cell and a
plurality of interconnection layers. The first macrocell is formed using
first basic cells of the plurality of basic cells and using
interconnection layers disposed over the first basic cells. The power
supply line is for supplying power to the first macrocell and is formed
around the first macrocell using an upper interconnection layer of the
plurality of interconnection layers. The second macrocell is formed below
the power supply line using a basic cell and a lower interconnection
layer, extending over the basic cell, of the plurality of interconnection
layers.
Un IC del semicustom incluyendo una pluralidad de células básicas dispuso en un substrato del semiconductor, un primer macrocell, un segundo macrocell adyacente al primer macrocell, y una línea de la fuente de alimentación. Se forman el primer macrocell y el segundo macrocell cada uno usando por lo menos una célula básica y una pluralidad de capas de la interconexión. Se forma el primer macrocell usando las primeras células básicas de la pluralidad de células básicas y con el excedente dispuesto las capas de la interconexión las primeras células básicas. La línea de la fuente de alimentación está para la energía que provee al primer macrocell y se forma alrededor del primer macrocell usando una capa superior de la interconexión de la pluralidad de capas de la interconexión. El segundo macrocell se forma debajo de la línea de la fuente de alimentación usando una célula básica y una capa más baja de la interconexión, extendiendo sobre la célula básica, de la pluralidad de capas de la interconexión.
