A developer is supplied onto a substrate and thereafter a rinse discharge
nozzle is moved toward an operating direction. The rinse discharge nozzle
is so moved on the substrate as to continuously supply pure water onto the
substrate from a slit discharge port of the rinse discharge nozzle while
sucking and recovering the pure water from the surface of the substrate
through a slit suction port, and a series of development is performed in a
stationary state of the substrate.
Een ontwikkelaar wordt geleverd op een substraat en daarna is een pijp van de spoelingslossing op weg geweest naar een werkende richting. De pijp van de spoelingslossing wordt zo bewogen op het substraat om zuiver water op het substraat van een haven van de spleetlossing van de pijp van de spoelingslossing onophoudelijk te leveren terwijl het zuigen van en het terugkrijgen van het zuivere water van de oppervlakte van het substraat door een haven van de spleetzuiging, en een reeks van ontwikkeling in een stationaire staat van het substraat worden uitgevoerd.
