Disclosed herein is a measuring apparatus utilizing attenuated total
reflection. The measuring apparatus is equipped with a dielectric block, a
thin film layer formed on one surface of the dielectric block, an optical
system for making a light beam enter the dielectric block so that a
condition for total internal reflection is satisfied at an interface
between the dielectric block and the thin film layer, and a two-piece
photodiode for detecting the light beam totally reflected at the
interface. When attenuated total reflection is detected a plurality of
times for a single sample, the two-piece photodiode is disposed at a
predetermined position relative to a dark line when a first measurement is
made. The two-piece photodiode is also disposed at the same position as
the predetermined position stored in a storage unit when a second
measurement and measurements thereafter are made.
Hierin onthuld is een metend apparaat dat verminderde totale bezinning gebruikt. Het metende apparaat is uitgerust met een diëlektrisch blok, een dunne filmlaag die op één oppervlakte van het diëlektrische blok, een optisch systeem wordt gevormd om een lichtstraal te maken het diëlektrische blok ingaan zodat een voorwaarde voor totale interne discussie bij een interface tussen het diëlektrische blok en de dunne filmlaag voldaan aan is, en een tweedelige fotodiode voor het ontdekken van de lichtstraal die totaal bij de interface wordt weerspiegeld. Wanneer de verminderde totale bezinning een meerderheid van tijden voor één enkele steekproef wordt ontdekt, wordt de tweedelige fotodiode geschikt bij een vooraf bepaalde positie met betrekking tot een donkere lijn wanneer een eerste meting wordt gemaakt. De tweedelige fotodiode wordt ook bij de zelfde positie zoals de vooraf bepaalde positie geschikt die in een opslageenheid wordt opgeslagen wanneer een tweede meting en de metingen daarna worden gemaakt.
