Antistatic compositions include a fluorochemical that is a reaction product
of R.sub.f --CH.sub.2 CH.sub.2 --SO.sub.3 H with an amine wherein R.sub.f
comprises 4 or more fully fluorinated carbon atoms. These antistatic
compositions can be formulated in organic solvent-based conductive coating
compositions, with or without hydrophobic binders, that can be used to
form conductive layers in thermally developable materials including
thermographic and photothermographic materials.
As composições antiestáticas incluem um fluorochemical que seja um produto da reação de R.sub.f -- CH.sub.2 CH.sub.2 -- SO.sub.3 H com um amine wherein R.sub.f compreende 4 ou mais átomos de carbono inteiramente fluorinated. Estas composições antiestáticas podem ser formuladas em composições revestindo condutoras solvente-baseadas orgânicas, com ou sem pastas hydrophobic, que podem ser usadas dar forma a camadas condutoras em materiais tèrmica developable including materiais thermographic e photothermographic.
