The present invention provides a modular high repetition rate ultraviolet
gas discharge laser light source for a production line machine. The system
includes an enclosed and purged beam path with beam pointing control for
delivery the laser beam to a desired location such as the entrance port of
the production line machine. In preferred embodiments, the production line
machine is a lithography machine and two separate discharge chambers are
provided, one of which is a part of a master oscillator producing a very
narrow band seed beam which is amplified in the second discharge chamber.
This MOPA system is capable of output pulse energies approximately double
the comparable single chamber laser system with greatly improved beam
quality. A pulse stretcher more than doubles the output pulse length
resulting in a reduction in pulse power (mJ/ns) as compared to prior art
laser systems. This preferred embodiment is capable of providing
illumination at a lithography system wafer plane which is approximately
constant throughout the operating life of the lithography system, despite
substantial degradation of optical components.
De onderhavige uitvinding verstrekt een modulaire hoge van de ultraviolette van het herhalingstarief de laser lichtbron gaslossing voor een lopende bandmachine. Het systeem omvat een ingesloten en gezuiverde straalweg met straal richtend controle voor levering de laserstraal aan een gewenste plaats zoals de ingangshaven van de lopende bandmachine. In aangewezen belichamingen, is de lopende bandmachine een lithografiemachine en twee afzonderlijke lossingskamers worden verstrekt, één waarvan een deel van een hoofdoscillator die een zeer smalle straal produceert is van het bandzaad die in de tweede lossingskamer wordt vergroot. Dit systeem MOPA is geschikt voor de energieën van de outputimpuls het ongeveer dubbele vergelijkbare enige systeem van de kamerlaser met zeer betere straalkwaliteit. Een impulsbrancard verdubbelt meer dan de lengte van de outputimpuls resulterend in een vermindering van impulsmacht (mJ/NS) in vergelijking tot de systemen van de vroegere kunstlaser. Deze aangewezen belichaming kan verlichting bij een het wafeltjevliegtuig van het lithografiesysteem verstrekken dat door het werkende leven van het lithografiesysteem, ondanks aanzienlijke degradatie van optische componenten ongeveer constant is.
