Process control for micro-lithography

   
   

A method is presented for controlling a process to be applied to a patterned structure in a production run. Reference data is provided being representative of diffraction signatures corresponding to a group of different fields in a structure similar to the patterned structure in the production line, and of a control window for the process parameters corresponding to a signature representative of desired process results. The group of different fields is characterized by different process parameters used in the manufacture of these fields. The method utilizes an expert system trained to be responsive to input data representative of a diffraction signature to provide output data representative of corresponding effective parameters of the process. Optical measurements are applied to different sites on the patterned structure in the production line to obtain diffraction signatures of thereof and generate corresponding measured data. The expert system analyses the measured data to determine effective parameters of the process applied to the patterned structure in the production line. The effective process parameters can then be analyzed to determine deviation thereof from corresponding nominal values, to thereby enable the process control.

Μια μέθοδος παρουσιάζεται για τον έλεγχο μιας διαδικασίας που εφαρμόζεται σε μια διαμορφωμένη δομή σε ένα τρέξιμο παραγωγής. Το στοιχείο αναφοράς παρέχεται όντας αντιπροσωπευτικό των υπογραφών διάθλασης που αντιστοιχούν σε μια ομάδα διαφορετικών τομέων σε μια δομή παρόμοια με τη διαμορφωμένη δομή στη γραμμή παραγωγής, και ενός παραθύρου ελέγχου για τις παραμέτρους διαδικασίας που αντιστοιχούν σε μια υπογραφή αντιπροσωπευτική των επιθυμητών αποτελεσμάτων διαδικασίας. Η ομάδα διαφορετικών τομέων χαρακτηρίζεται από τις διαφορετικές παραμέτρους διαδικασίας που χρησιμοποιούνται στην κατασκευή αυτών των τομέων. Η μέθοδος χρησιμοποιεί ένα έμπειρο σύστημα που εκπαιδεύεται για να ανταποκριθεί στα δεδομένα εισόδου αντιπροσωπευτικά μιας υπογραφής διάθλασης για να παρέχει τα δεδομένα εξόδου αντιπροσωπευτικά των αντίστοιχων αποτελεσματικών παραμέτρων της διαδικασίας. Οι οπτικές μετρήσεις εφαρμόζονται στις διαφορετικές περιοχές στη διαμορφωμένη δομή στη γραμμή παραγωγής για να λάβουν τις υπογραφές διάθλασης επ' αυτού και να παραγάγουν τα αντίστοιχα μετρημένα στοιχεία. Το έμπειρο σύστημα αναλύει τα μετρημένα στοιχεία για να καθορίσει τις αποτελεσματικές παραμέτρους της διαδικασίας που εφαρμόζεται στη διαμορφωμένη δομή στη γραμμή παραγωγής. Οι αποτελεσματικές παράμετροι διαδικασίας μπορούν έπειτα να αναλυθούν για να καθορίσουν την απόκλιση επ' αυτού από τις αντίστοιχες ονομαστικές τιμές, για με αυτόν τον τρόπο να επιτρέψουν τον έλεγχο διεργασίας.

 
Web www.patentalert.com

< System and method for controlling power demand over an integrated wireless network

< Personal computer used in conjunction with television to display information related to television programming

> Polarization-stable vertical cavity surface emitting laser device and a method of stabilizing the polarization of a vertical cavity surface emitting laser device

> Quantum dot tunable external cavity laser (QD-TEC laser)

~ 00103