A scanning exposure apparatus transfers a pattern of a master to a
substrate with slit-shaped exposure light while a master stage holding the
master and a substrate stage holding the substrate are moved. The
apparatus includes a measurement unit arranged to measure positional sync
deviations between the master stage and the substrate stage with respect
to each of a plurality of points in an exposure shot region on the
substrate during scanning exposure of each of the plurality of points to
the light, a first calculation unit arranged to calculate a standard
deviation of the positional sync deviations measured by the measurement
unit with respect to each of the plurality of points in the exposure shot
region, and a second calculation unit arranged to calculate a variation of
the standard deviations calculated by the first calculation unit with
respect to the exposure shot region. In addition, a process unit is
arranged to execute a process based on the vibration calculated by the
second calculation unit.
Ein Abtastungbelichtung Apparat bringt ein Muster eines Meisters auf ein Substrat mit aufschlitzen-geformtem Belichtung Licht, während ein Vorlagenstadium, das den Meister halten und ein Substratstadium, welches das Substrat hält, verschoben werden. Der Apparat schließt eine Maßmaßeinheit ein, die geordnet wird, um Positionssynchronisierung Abweichungen zwischen dem Vorlagenstadium und dem Substratstadium in Bezug auf jede einer Mehrzahl der Punkte in einer Belichtung zu messen schoß Region auf dem Substrat während der Abtastungaussetzung von jeder der Mehrzahl der Punkte zum Licht, schoß eine erste Berechnung Maßeinheit, die geordnet wurde, um eine Standardabweichung der Positionssynchronisierung Abweichungen zu errechnen gemessen wurden durch die Maßmaßeinheit in Bezug auf jede der Mehrzahl der Punkte in der Belichtung, Region, und eine zweite Berechnung Maßeinheit, die geordnet wurde, um eine Veränderung der Standardabweichungen zu errechnen errechnet wurden durch die erste Berechnung Maßeinheit in Bezug auf die Belichtung, schoß Region. Zusätzlich wird eine Prozeßmaßeinheit geordnet, um einen Prozeß durchzuführen, der auf der Erschütterung basiert, die durch die zweite Berechnung Maßeinheit errechnet wird.
