The present invention comprises a method and apparatus for prioritizing the
implementation of resolution-enhancing mask corrections such as scattering
bars on lithography tools. Prioritizing conflicting resolution-enhancing
mask corrections produces a lithography tool having improved fidelity
because corrections that provide the most beneficial effects can be
implemented at the expense of corrections that provide less benefit. In a
preferred embodiment, the prioritization is based on the geometry of the
conflicting correction. For example, assist features that are closer to
their respective generating edge may be assigned higher priorities, and
assist features generated from orthogonal edges may be assigned higher
priorities than features generated from angled edges.
A invenção atual compreende um método e um instrumento para dar prioridade à execução de correções definição-realçando da máscara tais como dispersar barras em ferramentas do lithography. Opôr dar prioridade definição-realçando correções da máscara produz uma ferramenta do lithography que melhora o fidelity porque as correções que fornecem os efeitos os mais benéficos podem ser executadas à custa das correções que fornecem menos benefício. Em uma incorporação preferida, o prioritization é baseado na geometria da correção opondo. Para o exemplo, as características da assistência que são mais perto de sua borda gerando respectiva podem ser atribuídas umas prioridades mais elevadas, e uma assistência caracterizam gerado das bordas orthogonal podem ser atribuídas umas prioridades mais elevadas do que as características geradas das bordas angulares.
