A system and method are disclosed for monitoring characteristics of a
substrate. A substrate is supported for movement within a processing
environment and an incident light beam is emitted onto a surface of the
substrate. The incident beam is provided to a moveable reflector that
directs the beam to the substrate. A control system controls movement of
the reflector so as to selectively interrogates the substrate with the
beam.
Система и метод показаны для контролировать характеристики субстрата. Субстрат поддержан для движения внутри обрабатывая окружающая среда и световой луч случая испущен на поверхность субстрата. Луч случая снабжен подвижной рефлектор направляет луч к субстрату. Движение управлениями системаа управления рефлектора селективно опрашивает субстрат с лучем.
