Hot plate precipitation measuring system

   
   

A precipitation measuring system comprising a top thermal plate positioned to maximize exposure to falling precipitation and includes at least one ridge circumscribing the top surface for capturing precipitation. A second thermal plate is positioned under the top thermal plate to protect it from falling precipitation while still exposing it to the same atmospheric temperature and wind conditions. At least one solar radiation sensor is connected to the precipitation measuring system to measure solar radiation contacting at least one of the top and bottom thermal plates. During a precipitation event, the top and bottom thermal plates are maintained at a constant temperature and a power consumption curve for each thermal plate is quantified. The precipitation rate is measured by the difference in the power consumption curve for the top thermal plate and the power consumption curve for the bottom thermal plate.

Система высыпания измеряя состоя из верхней термально плиты расположенной для того чтобы увеличить подвержение к падая высыпанию и вклюает по крайней мере одну зигу описывая верхнюю поверхность для захватывая высыпания. Вторая термально плита расположена под верхнюю термально плиту для того чтобы защитить ее от падая высыпания пока все еще подвергающ действию она к таким же условиям температуры атмосферы и ветра. По крайней мере один датчик солнечного излучения соединен к системе высыпания измеряя к излучению измерения солнечному контактируя по крайней мере одну из плит восходящего потока теплого воздуха верхней части и дна. Во время случая высыпания, верхняя часть и нижние термально плиты поддержаны на постоянн температуре и квантифицирована кривый расхода энергии для каждой термально плиты. Тариф высыпания измерен разницей в кривом расхода энергии для верхней термально плиты и кривом расхода энергии для нижней термально плиты.

 
Web www.patentalert.com

< Hybrid power system for continuous reliable power at remote locations

< Service case

> Fluorinated polymers having ester groups and photoresists for microlithography

> Apparatus and process for annealing a multilayer body, and multilayer body of this type

~ 00105