Purging gas from a photolithography enclosure between a mask protective device and a patterned mask

   
   

A method and apparatus are described for removing an initial gas from a gas-filled enclosure between the mask-protective device, such as a pellicle, and the patterned mask, such as a reticle, and adding a purge gas with a different composition. The gas-filled enclosure includes a vent for adding the purge gas to the enclosure and removing the initial gas from the enclosure. Adding and removing may be accomplished by using pressure, diffusion, or vacuum.

Een methode en een apparaat worden beschreven voor het verwijderen van een eerste gas uit een gas-filled bijlage tussen het masker-beschermende apparaat, zoals een pellicle, en het gevormde masker, zoals een dradenkruis, en het toevoegen van een zuiveringsgas met een verschillende samenstelling. De gas-filled bijlage omvat een opening voor het toevoegen van het zuiveringsgas aan de bijlage en het verwijderen van het aanvankelijke gas uit de bijlage. Het toevoegen en het verwijderen kunnen worden verwezenlijkt door druk, verspreiding, of vacuĆ¼m te gebruiken.

 
Web www.patentalert.com

< Liquid metal socket system and method

< Antenna having reconfigurable length

> Quantum bit with a multi-terminal junction and loop with a phase shift

> Bead and process for removing dissolved metal contaminants

~ 00106