Provided are alkenyl ether-based monomers having multi-ring structure, and
photosensitive polymers and resist compositions obtained from the same.
The photosensitive polymer includes a monomer unit represented by the
following formula:
##STR1##
wherein R.sub.4 and R.sub.5 are independently -H or -CH.sub.3, and R.sub.4
are independently -H, -OH or a alkyl group having 1-20 carbon atoms.
Op voorwaarde dat alkenyl op ether-gebaseerde monomeren multi-ringsstructuur hebben zijn zich, en fotogevoelige polymeren die en tegen samenstellingen verzetten die uit het zelfde worden verkregen. Het fotogevoelige polymeer omvat een monomeereenheid die door de volgende formule wordt vertegenwoordigd: ## STR1 ## waarin R.sub.4 en R.sub.5 onafhankelijk - H of - CH.sub.3 zijn, en R.sub.4 zijn onafhankelijk - H, - OH of een alkyl groep die 1-20 koolstofatomen heeft.
