A method for forming a thin film includes the steps of: supplying a
deposition material in the form of a liquid onto a heated surface; heating
and vaporizing the deposition material on the heated surface while the
deposition material is undergoing movement; and depositing the deposition
material onto a deposition surface. The deposition material is supplied
onto a position of the heated surface where the vaporized deposition
material does not reach the deposition surface.
Метод для формировать тонкую пленку вклюает шаги: поставлять материал низложения in the form of жидкость на нагретую поверхность; нагрюющ и испаряющ материал низложения на нагретой поверхности пока материал низложения проходит движение; и депозирующ материал низложения на поверхность низложения. Материал низложения поставлен на положение нагретой поверхности куда испаренный материал низложения не достигает поверхность низложения.
