Disclosed is a long working distance interference microscope suitable for
three-dimensional imaging and metrology of MEMS devices and test
structures on a standard microelectronics probe station. The long working
distance of 10-30 mm allows standard probes or probe cards to be used.
This enables nanometer-scale 3-D height profiles of MEMS test structures
to be acquired across an entire wafer. A well-matched pair of
reference/sample objectives is not required, significantly reducing the
cost of this microscope, as compared to a Linnik microinterferometer.
Длинним показан работа микроскопом взаимодействия расстояния целесообразным для трехмерных воображения и метрологии приспособлений MEMS и структур испытания на стандартной станции зонда микроэлектроники. Длиннее работая расстояние 10-30 миллиметров позволяет стандартные зонды или карточки зонда, котор нужно использовать. Это включает нанометр-vycisl4et по маштабу профили высоты 3-D структур испытания MEMS, котор нужно приобрести через всю вафлю. Необходима наилучшим образом-sopr4gaema4 пара задач reference/sample, значительно уменьшая цену этого микроскопа, по сравнению с микроинтерферометром Linnik.
