The invention relates to a device comprising microstructures or
nanostructures on a support, characterized in that the support comprises:
a) a substrate (1) comprising at least one part composed of a crystalline
material, this part having a surface (2) with a stress field or a topology
associated with a stress field, the stress field being associated with
dislocations,
b) an intermediate layer (3) bonded to the surface (2), and having a
thickness and/or composition and/or a surface state enabling transmission
of said stress field through this layer as far as its free face that
supports microstructures or nanostructures (4).
La invención se relaciona con un dispositivo que abarca microestructuras o nanostructures en una ayuda, caracterizada en que la ayuda abarca: a) un substrato (1) que abarca por lo menos una porción integrada por un material cristalino, esta parte que tiene un (2) superficial con un campo de tensión o una topología asociada a un campo de tensión, el campo de tensión que es asociado a dislocaciones, b) a la capa intermedia (3) enlazado el (2) superficial, y a tener un grueso y/o una composición y/o un estado superficial permitiendo la transmisión del campo de tensión dicho con esta capa hasta su cara libre que apoya las microestructuras o los nanostructures (4).
