A semiconductor IC (Integrated Circuit) has blocks implemented as a
standard cell each. Wirings are arranged in a wiring region for wiring the
connections of circuit devices of a standard cell, which constitute
utility circuit. A first and a second electrode each are formed in a
particular polycrystalline silicon layer in the wiring region different
from a layer assigned to the wirings. Either of the two electrodes is
connected to a power supply while the other is connected to ground,
forming a capacitance between the overlapping portions thereof.
Um IC do semicondutor (circuito integrado) tem os blocos executados como uma pilha padrão cada uma. As fiações são arranjadas em uma região da fiação para wiring as conexões dos dispositivos do circuito de uma pilha padrão, que constituem o circuito de serviço público. Um primeiro e segundo elétrodo cada um é dado forma em uma camada polycrystalline particular do silicone na região da fiação diferente de uma camada atribuída às fiações. Qualquer um dos dois elétrodos é conectado a uma fonte de alimentação quando o outro for conectado à terra, dando forma a uma capacidade entre as parcelas sobrepondo disso.
