In accordance with the objectives of the invention a new method is provided
for creating air gaps in a layer of IMD. First and second layers of
dielectric are successively deposited over a surface; the surface contains
metal lines running in an Y-direction. Trenches are etched in the first
and second layer of dielectric in an X and Y-direction respectively. The
trenches are filled with a layer of nitride and polished. A thin layer of
oxide is deposited over the surface of the second layer of dielectric.
Openings are created through the thin layer of oxide that align with the
points of intersect of the nitride in the trenches in the layers of
dielectric. The nitride is removed from the trenches by a wet etch,
thereby opening trenches in the layers of dielectric with both sets of
trenches being interconnected. The openings in the thin layer of oxide are
closed, leaving a network of trenches containing air in the two layers of
dielectric.
Selon les objectifs de l'invention une nouvelle méthode est donnée pour créer des lacunes d'air dans une couche d'IMD. D'abord et les deuxièmes couches de diélectrique sont successivement déposés au-dessus d'une surface ; la surface contient des lignes en métal fonctionnant dans une Y-direction. Des fossés sont gravés à l'eau-forte dans la première et deuxième couche de diélectrique dans un X et une Y-direction respectivement. Les fossés sont remplis de couche de nitrure et polis. Une couche mince d'oxyde est déposée au-dessus de la surface de la deuxième couche de diélectrique. Des ouvertures dont sont créées par la couche mince de l'oxyde alignez avec les points intersectent de la nitrure dans les fossés dans les couches de diélectrique. La nitrure est éliminée des fossés par gravure à l'eau forte humide, ouvrant de ce fait des fossés dans les couches de diélectrique avec les deux ensembles de fossés étant reliés ensemble. Les ouvertures dans la couche mince de l'oxyde sont fermées, laissant un réseau des fossés contenant l'air dans les deux couches de diélectrique.
