A method and software program for determining printability of a defect on a
reticle or photomask onto a substrate during processing. That is performed
by creating a pixel grid image having a plurality of individual pixel
images showing the defect. A gray scale value is assigned to each pixel
image of the pixel grid image and a probable center pixel of the defect is
selected. Then the polarity of the defect is determined, with a coarse
center pixel of the defect optionally selected using the probable center
defect and polarity of the defect. If a coarse center pixel is selected,
then a fine center of the defect can optionally be selected from the
coarse center pixel and polarity of the defect. From the center pixel the
physical extent of the defect can be determined followed by the
determination the transmissivity energy level of the physical extent of
the defect. Optionally, the proximity of the defect to a pattern edge on
the reticle or photomask can be determined using the physical extent and
polarity of the defect. Then the printability of the defect can be
determined from the transmissivity energy level of the defect and
characteristics of the wafer fabrication process being used to produce the
substrate from the reticle or photomask.
Un programa del método y del software para determinar imprimibilidad de un defecto en un retículo o un photomask sobre un substrato durante el proceso. Eso es realizada creando una imagen de la rejilla del pixel que tiene una pluralidad de imágenes individuales del pixel que demuestran el defecto. Un valor de escala gris se asigna a cada imagen del pixel de la imagen de la rejilla del pixel y un pixel de centro probable del defecto se selecciona. Entonces la polaridad del defecto se determina, con un pixel de centro grueso del defecto seleccionado opcionalmente usando el defecto y la polaridad de centro probables del defecto. Si se selecciona un pixel de centro grueso, entonces un centro fino del defecto se puede seleccionar opcionalmente del pixel y de la polaridad de centro gruesos del defecto. Del pixel de centro que el grado físico del defecto puede ser determinado siguió por la determinación el nivel de energía del transmissivity del grado físico del defecto. Opcionalmente, la proximidad del defecto a un borde del patrón en el retículo o el photomask se puede determinar usando el grado y la polaridad físicos del defecto. Entonces la imprimibilidad del defecto se puede determinar del nivel de energía del transmissivity del defecto y las características de la fabricación de la oblea procesan siendo utilizado producir el substrato del retículo o del photomask.
