The invention provides a two-stage laser mode of photolithographic
molecular fluorine laser system for matching the center wavelength of an
oscillation-stage laser to the center wavelength of an amplification-stage
laser, thereby oscillating a laser beam having a low spectral purity and a
narrow linewidth. The laser system is of the two-stage mode comprising an
oscillation-stage laser 10 and an amplification-stage mode 20. The center
wavelength of a laser beam emitted out of the oscillation-stage laser 10
is compared with and substantially matched to the center wavelength of a
laser beam emitted out of the amplification-stage laser 20 when the latter
is oscillated by itself.
Die Erfindung stellt einen zweistufigen Laser Modus des photolithographic molekularen Fluorlaser Systems für das Zusammenbringen der Mittelwellenlänge eines Pendelbewegung-Stadium Lasers zur Mittelwellenlänge eines Verstärkung-Stadium Lasers zur Verfügung, dadurch sieoszilliert sieoszilliert ein Laserstrahl, der eine niedrige spektrale Reinheit und einen schmalen Linewidth hat. Das Laser System ist vom zweistufigen Modus, der einen Pendelbewegung-Stadium Laser 10 enthalten und von einem Verstärkung-Stadium Modus 20. Die Mittelwellenlänge eines Laserstrahles, der aus dem Pendelbewegung-Stadium Laser 10 heraus ausgestrahlt wird, wird mit verglichen und zusammengebracht im wesentlichen zur Mittelwellenlänge eines Laserstrahles, der aus dem Verstärkung-Stadium Laser 20 heraus ausgestrahlt wird, wenn der letzte selbst oszilliert wird.
