Exposure method and device manufacturing method using this exposure method

   
   

In an exposure method of drawing and exposing a second pattern with a scanner so as to match a first pattern formed on a sample upon exposure with a reduction projection exposure apparatus, a matrix is set on the sample. A distortion correction map representing an offset of a point corresponding to each matrix point on the first pattern from an ideal position is formed. The blocks of the matrix, small for a large offset and large for a small offset, are set when drawing the second pattern while correcting drawing information of the second pattern on the basis of offset information represented by the correction map. The block size of the distortion correction map is not uniformly reduced. A small block size is set for a large distortion, and a large block size is set for a small distortion, thereby reducing the data amount. A necessary and sufficient block size is set for distortion correction to minimize the number of times of arithmetic operation for correction processing without increasing the memory size, thereby achieving high-speed processing.

In einer Belichtung Methode des Zeichnens und des Herausstellens eines zweiten Musters mit einem Scanner, damit ein erstes Muster zusammenzubringen auf einer Probe nach Belichtung mit einem Verkleinerung Projektion Belichtung Apparat sich bildete, wird eine Matrix auf die Probe eingestellt. Ein Verzerrung Korrekturdiagramm, das einen Versatz eines Punktes entspricht jedem Matrixpunkt auf dem ersten Muster von einer idealen Position darstellt, wird gebildet. Die Blöcke der Matrix, klein während eines großen Versatzes und groß während eines kleinen Versatzes, werden, wenn man das zweite Muster eingestellt, beim Beheben der zeichnenden Informationen des zweiten Musters auf der Grundlage von die Offsetinformationen, die durch die Korrektur dargestellt werden, abbilden zeichnet. Die Blockgröße des Verzerrung Korrekturdiagramms wird nicht gleichmäßig verringert. Eine kleine Blockgröße wird für eine große Verzerrung eingestellt, und eine große Blockgröße wird für eine kleine Verzerrung eingestellt, dadurch verringert man die Daten, betragen. Eine notwendige und genügende Blockgröße wird eingestellt, damit Verzerrung Korrektur die Zahl Zeiten des arithmetischen Betriebes für die Korrektur herabsetzt, die ohne die Speichergröße zu erhöhen verarbeitet, dadurch erzielt man die Schnellverarbeitung.

 
Web www.patentalert.com

< Image forming apparatus featuring dual polarity, multiple timing bias applying means

< Aspherical microstructure, and method of fabricating the same

> Image processor and image processing method

> Recording apparatus having a pause mode in which video signals are written to memory by cyclically designating write addresses

~ 00113