An apparatus for rapid thermal processing is described and includes a
cylindrical lamp array structure (13) surrounding a cylindrical process
tube (16). The cylindrical process tube (16) has a lengthwise central axis
(22). The cylindrical lamp array structure (13) includes heat sources or
lamps (26). The lamps (26) are positioned with respect to the cylindrical
process tube (16) so that the sides of the lamps (26) focus light energy
in the direction of the lengthwise central axis (22). Substrates (12) are
oriented within the cylindrical process tube (16) so that the major
surfaces (14) of the substrates (12) are substantially normal to the
lengthwise central axis (22). In an alternative embodiment, a magnetic
field source (19) is included for processing storage devices such as
non-volatile memory devices.
Μια συσκευή για τη γρήγορη θερμική επεξεργασία περιγράφεται και περιλαμβάνει μια κυλινδρική δομή σειράς λαμπτήρων (13) που περιβάλλει έναν κυλινδρικό σωλήνα διαδικασίας (16). Ο κυλινδρικός σωλήνας διαδικασίας (16) έχει έναν κατά μήκος κεντρικό άξονα (22). Η κυλινδρική δομή σειράς λαμπτήρων (13) περιλαμβάνει τις πηγές θερμότητας ή τους λαμπτήρες (26). Οι λαμπτήρες (26) τοποθετούνται όσον αφορά τον κυλινδρικό σωλήνα διαδικασίας (16) έτσι ώστε οι πλευρές των λαμπτήρων (26) στρέφουν την ελαφριά ενέργεια στην κατεύθυνση των κατά μήκος κεντρικών υποστρωμάτων άξονα (22). (12) είναι προσανατολισμένες μέσα στον κυλινδρικό σωλήνα διαδικασίας (16) έτσι ώστε οι σημαντικότερες επιφάνειες (14) των υποστρωμάτων (12) είναι ουσιαστικά κανονικές στον κατά μήκος κεντρικό άξονα (22). Σε μια εναλλακτική ενσωμάτωση, μια πηγή μαγνητικών πεδίων (19) συμπεριλαμβάνεται για τις συσκευές αποθήκευσης επεξεργασίας όπως οι συσκευές αμετάβλητης μνήμης.
