In a pattern inspection apparatus inspecting a pattern formed on a device
and the like with a plurality of inspection lights, a sensitivity
adjustment method in which respective optical systems associated with the
inspection lights are efficiently and precisely checked to adjust the
sensitivity thereof is attained. The sensitivity adjusting method for
adjusting sensitivity of the pattern inspection apparatus performing
inspection with a plurality of inspection lights includes the steps of
preparing a sensitivity adjusting substrate divided into a plurality of
regions to which identical reference patterns are provided, and scanning
the reference patterns with the plurality of inspection lights making one
of the plurality of inspection lights respectively correspond to one of
the reference patterns, after attaching the sensitivity adjusting
substrate to the pattern inspection apparatus.
In der Musterkontrolle bildete sich ein Apparat, der ein Muster kontrolliert, auf einer Vorrichtung und dergleichen mit einer Mehrzahl der Kontrolle Lichter, eine Empfindlichkeit Justagemethode, in der die jeweiligen optischen Systeme, die mit den Kontrolle Lichtern verbunden sind, leistungsfähig und genau sind, überprüften, um die Empfindlichkeit davon zu justieren wird erreicht. Die Empfindlichkeit, die Methode auf die Justage von von Empfindlichkeit des Musterkontrolle Apparates durchführt Kontrolle mit einer Mehrzahl der Kontrolle Lichter einstellt, schließt die Schritte des Vorbereitens einer Empfindlichkeit ein, die das Substrat justiert, das in eine Mehrzahl der Regionen geteilt wird, zu denen identische Bezugsmuster zur Verfügung gestellt werden, und Abtastung die Bezugsmuster mit der Mehrzahl der Kontrolle Lichter, die ein von der Mehrzahl der Kontrolle Lichter entsprechen bilden beziehungsweise, bis eins der Bezugsmuster, nach der Befestigung der Empfindlichkeit, die Substrat auf den Musterkontrolle Apparat justiert.
