A notch inspection method based on shading pattern matching for inspecting
notches on semiconductor packages or like objects. A template is created
to characteristically express brightness gradations of a notch edge in a
picture, i.e., to represent the notch edge in pixels constituting
contiguous bright and dark portions of the edge. The template may be
created on the basis of notch size information or notch size measurements.
The template is checked against pictures under inspection in shading
pattern matching whereby presence of a notch is determined. Computations
of shading pattern matching are omitted regarding portions of the notch
edge where brightness remains unchanged.
Un metodo di controllo della tacca basato sulla corrispondenza di modello proteggente per il controllo delle tacche sui pacchetti a semiconduttore o come gli oggetti. Una mascherina è generata tipicamente per esprimere le gradazioni di luminosità di un bordo della tacca in un'immagine, cioè, per rappresentare il bordo della tacca in pixel che costituiscono le parti luminose e scure attigue del bordo. La mascherina può essere generata in base alle misure delle informazioni di formato della tacca o di formato della tacca. La mascherina è controllata contro le immagini sotto controllo nella corrispondenza di modello proteggente per cui la presenza di una tacca è determinata. I calcoli della corrispondenza di modello proteggente sono omessi per quanto riguarda le parti del bordo della tacca in cui la luminosità rimane identicamente.
