An EUV radiation source (12) that generates a sheet (36) of a liquid target
material that has a width that matches the desired laser spot size (28)
for good conversion efficiency and a thickness that matches the laser
beam/target interaction depth. The EUV source (12) includes a reservoir
(10) containing a pressurized cryogenic liquid target material, such as
liquid Xenon. The reservoir (10) also includes an array (14) of closely
spaced orifices (16). The liquid target material is forced through the
orifices (16) into a vacuum chamber as separated liquid stream filaments
(20) of the target material that define the sheet (36). The liquid streams
freeze to form an array of frozen target filaments (20). A laser beam (24)
is directed to a target area (28) in the vacuum chamber where it
irradiates the stream of filaments (20) to create a plasma (30) that emits
EUV radiation (32).
Μια πηγή ακτινοβολίας EUV (12) που παράγει ένα φύλλο (36) ενός υγρού υλικού στόχων που έχει ένα πλάτος που ταιριάζει με το επιθυμητό μέγεθος σημείων λέιζερ (28) για την καλή αποδοτικότητα μετατροπής και ένα πάχος που ταιριάζει με το βάθος αλληλεπίδρασης ακτίνων/στόχων λέιζερ. Η EUV πηγή (12) περιλαμβάνει μια δεξαμενή (10) που περιέχει ένα διατηρημένο σταθερή ατμοσφαιρική πίεση κρυογόνο υγρό υλικό στόχων, όπως υγρό xenon. Η δεξαμενή (10) επίσης περιλαμβάνει μια σειρά (14) πολύ χωρισμένων κατά διαστήματα στομίων (16). Το υγρό υλικό στόχων αναγκάζεται μέσω των στομίων (16) σε μια κενή αίθουσα ως χωρισμένες υγρές ίνες ρευμάτων (20) του υλικού στόχων που καθορίζουν το φύλλο (36). Τα υγρά ρεύματα παγώνουν για να διαμορφώσουν μια σειρά παγωμένων ινών στόχων (20). Μια ακτίνα λέιζερ (24) κατευθύνεται σε μια περιοχή στόχων (28) στην κενή αίθουσα όπου ακτινοβολεί το ρεύμα των ινών (20) για να δημιουργήσει ένα πλάσμα (30) που εκπέμπει EUV την ακτινοβολία (32).
