A method for forming a continuous film on a substrate surface that involves
depositing particles onto a substrate surface and contacting the
particle-deposited substrate surface with a supercritical fluid under
conditions sufficient for forming a continuous film from the deposited
particles. The particles may have a mean particle size of less 1 micron.
The method may be performed by providing a pressure vessel that can
contain a compressible fluid. A particle-deposited substrate is provided
in the pressure vessel and the compressible fluid is maintained at a
supercritical or sub-critical state sufficient for forming a film from the
deposited particles. The T.sub.g of particles may be reduced by subjecting
the particles to the methods detailed in the present disclosure.
Метод для формировать непрерывную пленку на поверхности субстрата включает депозировать частицы на поверхность субстрата и контактировать частиц-depozirovannuh поверхность субстрата с закризисной жидкостью под условиями достаточно для формировать непрерывную пленку от депозированных частиц. Частицы могут иметь средний размер частицы без 1 микрона. Метод может быть выполнен путем обеспечивать сосуд под давлением может содержать compressible жидкость. Частиц-depozirovanny1 субстрат обеспечен в сосуде под давлением и compressible жидкость поддержана на закризисном или субкритическом положении достаточно для формировать пленку от депозированных частиц. T.sub.g частиц может быть уменьшено путем подвергать частицы к методам детализированным в присытствыющем разоблачении.
