Apparatus for localizing production errors in a photovoltaic element

   
   

Apparatus for localizing production errors in a photovoltaic element which is formed substantially by a semiconductor substrate in the form of a wafer, on opposite main surfaces of which are arranged electrical conductors for transporting electrical charge carriers. The apparatus includes at least one first electrode in electrical contact with a first main surface of the substrate and displaceable over the substrate, and a second electrode to be arranged in electrical contact with the conductors on the second main surface. A voltage measuring device is provided for measuring the voltage between the at least one first and the second electrode subject to the position of the first electrode on the first main surface, and a device for adjusting a bias over the electrical conductors on the opposite main surfaces of the substrate.

Apparat für das Beschränken von von Produktion Störungen in einem photo-voltaischen Element, das im wesentlichen durch ein Halbleitersubstrat in Form einer Oblate gebildet wird, auf von dem gegenüberliegenden Hauptoberflächen geordnete elektrische Leiter für das Transportieren der elektrische Aufladung Fördermaschinen sind. Der Apparat schließt mindestens eine erste Elektrode im elektrischen Kontakt mit einer ersten Hauptoberfläche des Substrates und das ersetzbare über dem Substrat und eine zweite im elektrischen Kontakt mit den Leitern auf der zweiten Hauptoberfläche geordnet zu werden Elektrode, mit ein. Ein Spannung Meßinstrument wird für das Messen der Spannung zwischen der mindestens einer ersten und der zweiten Elektrode abhängig von der Position der ersten Elektrode auf der ersten Hauptoberfläche und eine Vorrichtung für die Justage einer Vorspannung über den elektrischen Leitern auf den gegenüberliegenden Hauptoberflächen des Substrates zur Verfügung gestellt.

 
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