Lithographic methods are disclosed. In one such method, a pulsed
ultraviolet radiation source for producing ultraviolet lithography
radiation having a wavelength shorter than about 300 nm at a fluence of
less than 10 mJ/cm.sup.2 /pulse and a high purity fused silica lithography
glass having a concentration of molecular hydrogen of between about
0.02.times.10.sup.18 molecules/cm.sup.3 and about 0.18.times.10.sup.18
molecules/cm.sup.3 are provided. A lithography pattern is formed with the
ultraviolet lithography radiation; the lithography pattern is reduced to
produce a reduced lithography pattern; and the reduced lithography pattern
is projected onto a ultraviolet radiation sensitive lithography medium to
form a printed lithography pattern. At least one of the forming, reducing,
and projecting steps includes transmitting the ultraviolet lithography
radiation through the high purity fused silica lithography glass.
Lithography systems and high purity fused silica lithography glass are
also described.
Des méthodes lithographiques sont révélées. Dans une telle méthode, une source pulsée de rayonnement ultraviolet pour produire le rayonnement ultra-violet de lithographie ayant une longueur d'onde plus sous peu qu'environ 300 nm à un fluence de moins de 10 mJ/cm.sup.2 /pulse et un verre fondu de lithographie de silice de grande pureté ayant une concentration d'hydrogène moléculaire de entre environ 0.02.times.10.sup.18 molecules/cm.sup.3 et au sujet de 0.18.times.10.sup.18 molecules/cm.sup.3 sont fournies. Un modèle de lithographie est formé avec le rayonnement ultra-violet de lithographie ; le modèle de lithographie est réduit pour produire un modèle réduit de lithographie ; et on projette que le modèle réduit de lithographie sur un milieu sensible de lithographie de rayonnement ultraviolet forme un modèle imprimé de lithographie. Au moins un de la formation, réduisant, et projetant des étapes inclut transmettre le rayonnement ultra-violet de lithographie par le verre fondu de lithographie de silice de grande pureté. Des systèmes de lithographie et le verre fondu de lithographie de silice de grande pureté sont également décrits.
