A lithography system and method for cost-effective device manufacture that
can employ a continuous lithography mode of operation is disclosed,
wherein exposure fields are formed with single pulses of radiation. The
system includes a pulsed radiation source (14), an illumination system
(24), a mask (M), a projection lens (40) and a workpiece stage (50) that
supports a workpiece (W) having an image-bearing surface (WS). A radiation
source controller (16) and a workpiece stage position system (60), which
includes a metrology device (62), are used to coordinate and control the
exposure of the mask with radiation pulses so that adjacent radiation
pulses form adjacent exposure fields (EF). Where pulse-to-pulse uniformity
from the radiation source is lacking, a pulse stabilization system (18)
may be optionally used to attain the desired pulse-to-pulse uniformity in
exposure dose. The rapidity at which exposures can be made using a single
radiation pulse allows for a very high throughput, which in turn allows
for a small-image-field projection lens to be utilized in a cost-effective
manner in the manufacture of devices such as semiconductor integrated
circuits and the like. The system can also be used in the conventional
"step-and-repeat" mode of operation, so that the system owner can decide
the most cost-effective mode of operation for any given application.
Un sistema e un metodo di litografia per il dispositivo redditizio producono che può impiegare un modo di funzionamento continuo di litografia è rilevato, in cui i campi di esposizione sono formati con i singoli impulsi di radiazione. Il sistema include una fonte pulsata di radiazione (14), un sistema di illuminazione (24), una mascherina (m), un obiettivo della proiezione (40) e una fase del pezzo in lavorazione (50) che sostiene un pezzo in lavorazione (w) che ha una superficie del immagine-cuscinetto (W). Un regolatore di fonte di radiazione (16) e un sistema di posizione della fase del pezzo in lavorazione (60), che include un dispositivo di metrologia (62), sono usati per coordinare e controllare l'esposizione della mascherina con gli impulsi di radiazione in modo che la radiazione adiacente pulsi campi adiacenti di esposizione della forma (EF). Dove l'uniformità di impulso-$$$-IMPULSO dalla fonte di radiazione sta difettando di, un sistema di stabilizzazione di impulso (18) può facoltativamente essere usato per raggiungere l'uniformità voluta di impulso-$$$-IMPULSO nella dose di esposizione. La rapidità a cui le esposizioni possono essere fatte usando un singolo impulso di radiazione tiene conto un rendimento molto alto, che a sua volta tiene conto affinchè un obiettivo della proiezione del piccolo-immagine-campo sia utilizzato in un modo redditizio nella fabbricazione di dispositivi quali i circuiti integrati a semiconduttore ed i simili. Il sistema può anche essere usato nel convenzionale "punto-e-ripete" il modo di funzionamento, di modo che il proprietario del sistema può decidere il modo di funzionamento più redditizio per tutta l'data applicazione.
