An X-ray exposure apparatus for transferring a mask pattern onto a
substrate. The apparatus includes an X-ray source for generating X-ray
light, an optical system which includes a collimator lens for generating
parallel X-ray light for transferring a mask pattern to a substrate, from
the X-ray source, a detection unit which detects a position of the X-ray
source relative to a mask, and a correction unit which corrects a position
and an attitude of the optical system on the basis of a detection result
obtained by the detection unit.
Een X-ray blootstellingsapparaat om een maskerpatroon op een substraat over te brengen. Het apparaat omvat een X-ray bron voor het produceren van X-ray licht, een optisch systeem dat een collimatorlens voor het produceren van parallel X-ray licht voor het overbrengen van een maskerpatroon naar een substraat, uit de X-ray bron, een opsporingseenheid die een positie van de X-ray bron met betrekking tot een masker ontdekken, en een correctieeenheid omvat die een positie en een houding van het optische systeem op basis van een opsporingsresultaat verbetert dat door de opsporingseenheid wordt verkregen.
