A method of making and an etchable wafer substrate for use in making
optical fiber array plates includes forming a progressively increasing
series of metrology holes when the plate holes are formed. The variation
between designed plate hole diameter and actual plate hole diameter is
determined by sequentially inserting a probe of known designed diameter
into the metrology holes to determine the two size-adjacent metrology
holes variation. The plate hole diameter can be determined by comparing
one of the size-adjacent metrology hole diameter with the respective art
work metrology hole diameter. Plate hole diameters can then be corrected
for variation with further processing.
Een methode om en een etchable wafeltjesubstraat voor gebruik te maken in het maken van de platen van de optische vezelserie omvat het vormen van een progressief stijgende reeks metrologiegaten wanneer de plaatgaten worden gevormd. De variatie tussen de ontworpen diameter van het plaatgat en de daadwerkelijke diameter van het plaatgat wordt bepaald door een sonde van bekende ontworpen diameter in de metrologiegaten opeenvolgend op te nemen om twee grootte-adjacent de variatie van metrologiegaten te bepalen. De diameter van het plaatgat kan worden bepaald door één van de grootte-aangrenzende diameter van het metrologiegat met de respectieve diameter van het de metrologiegat van het kunstwerk te vergelijken. De het gatendiameters van de plaat kunnen dan voor variatie met verdere verwerking worden verbeterd.
