Acid-catalyzed positive resist compositions which are imageable with 193 nm
radiation (and possibly other radiation) and are developable to form
resist structures of improved development characteristics, improved etch
resistance, and reduced post-exposure bake sensitivity are enabled by the
use of resist compositions containing an imaging polymer having cyclic
olefin monomeric units respectively having pendant, acid-labile protecting
moieties, lactone moieties and fluoroalcohol moieties. The lactone moiety
is preferably a pendant lactone ester.
il positive Acido-catalizzato resiste alle composizioni che sono imageable con radiazione di 193 nm (e possibilmente l'altra radiazione) e sono developable formare resistono alle strutture delle caratteristiche migliorate di sviluppo, alla resistenza migliorata incissione all'acquaforte e post-esposizione ridotti cuociono la sensibilità sono permessi tramite l'uso di resistono alle composizioni che contengono un polimero di formazione immagine che ha unità monomeriche dell'olefina ciclica rispettivamente avere il pendente, le parti di protezione acido-labili, le parti del lattone e parti di fluoroalcohol. La parte del lattone è preferibilmente un estere pendant del lattone.
