A process management system in accordance with the present invention
includes inspection apparatuses for inspecting defects on a wafer, the
inspection apparatuses being connected through a communication network,
inspection information and image information obtained from these
inspection apparatuses being collected to construct a data base and an
image file, therein definition of defects is given by combinations of
elements which characterize the defect based on the inspection information
and the image information obtained from the inspection apparatuses. By
giving definition of the defect, characteristics of the defect can be
subdivided and known. Therefore, the cause of a defect can be studied.
Ein Prozeßmanagementsystem in Übereinstimmung mit der anwesenden Erfindung schließt Kontrolle Apparate für kontrollierende Defekte auf einer Oblate, die Kontrolle Apparate mit ein, die durch ein Kommunikationsnetz, Kontrolle Informationen angeschlossen werden und die Bildinformationen, die von diesen Kontrolle Apparaten gesammelt werden, um eine Datenbank und eine Bildakte, darin Definition aus Defekten zu konstruieren eingeholt werden, werden durch Kombinationen der Elemente gegeben, die den Defekt kennzeichnen, der auf den Kontrolle Informationen und den Bildinformationen eingeholt werden von den Kontrolle Apparaten basiert. Indem man Definition des Defektes gibt, können Eigenschaften des Defektes unterteilt werden und bekannt. Folglich kann die Ursache eines Defektes studiert werden.
