A PDP does not suffer from dielectric breakdown even though a dielectric
layer is thin, with the problems of conventional PDPs, such as cracks
appearing in the glass substrates during the production of the PDP being
avoided. To do so, the surface of silver electrodes of the PDP is coated
with a 0.1-10 .mu.m layer of a metallic oxide, on whose surface OH groups
exist, such as ZnO, ZrO.sub.2, MgO, TiO.sub.2, Al.sub.2 O.sub.3, and
Cr.sub.2 O.sub.3. The metallic oxide layer is then coated with the
dielectric layer. It is preferable to form the metallic oxide layer with
the CVD method. The surface of a metallic electrode can be coated with a
metallic oxide, which is then coated with a dielectric layer. The
dielectric layer can be made of a metallic oxide with a vacuum process
method or the plasma thermal spraying method. The dielectric layer formed
on electrodes with the CVD method is remarkably thin and flawless. When
the dielectric layer is formed with the vacuum process method or the
plasma spraying method, warping and cracks conventionally caused by baking
the dielectric layer are prevented. Here, borosilicate glass including
6.5% or less by weight of alkali can be used as the glass substrate.
Um PDP não sofre da avaria dieléctrica mesmo que uma camada dieléctrica seja fina, com os problemas de PDPs convencional, tais como as rachaduras que aparecem nas carcaças de vidro durante a produção do PDP que está sendo evitado. Para fazer assim, a superfície dos elétrodos de prata do PDP é revestida com uma 0.1-10 camada do mu.m de um óxido metálico, cujos em grupos de superfície do OH existem, como ZnO, ZrO.sub.2, o MgO, TiO.sub.2, Al.sub.2 O.sub.3, e Cr.sub.2 O.sub.3. A camada metálica do óxido é revestida então com a camada dieléctrica. É preferível dar forma à camada metálica do óxido com o método do CVD. A superfície de um elétrodo metálico pode ser revestida com um óxido metálico, que seja revestido então com uma camada dieléctrica. A camada dieléctrica pode ser feita de um óxido metálico com um método do processo do vácuo ou o método de pulverização térmico do plasma. A camada dieléctrica dada forma nos elétrodos com o método do CVD é notàvelmente fina e flawless. Quando a camada dieléctrica é dada forma com o método do processo do vácuo ou o método de pulverização do plasma, entortar e rachaduras causados convencionalmente cozendo a camada dieléctrica estão impedidas. Aqui, o vidro do borosilicate including 6.5% ou menos pelo peso do alcalóide podem ser usados como a carcaça de vidro.
