Method of manufacturing monolithic ink-jet printhead

   
   

A method of manufacturing a monolithic ink-jet printhead includes a heating element which generates bubbles by heating ink is formed on a surface of the substrate, and a negative photoresist which is coated to a predetermined thickness on the substrate on which the heating element is formed. Next, a portion, which forms a sidewall of an ink passage forming wall surrounding an ink chamber and a restrictor, of the negative photoresist is flush exposed to light and cured using a first photomask in which patterns of the ink chamber and the restrictor of the ink passage are formed. Subsequently, a second portion which forms an upper wall of the ink passage forming wall of the negative photoresist is exposed to the light using a second photomask in which the pattern of a nozzle is formed, and the second portion is exposed to the light by only a predetermined thickness. Last, an uncured portion of the negative photoresist is dissolved and removed using solvent. An ink-jet printhead whose elements are monolithically formed by a simplified process using a single negative photoresist can be manufactured.

Un metodo di produzione del printhead monolitico del getto di inchiostro include un elemento riscaldante che genera le bolle riscaldando l'inchiostro è formato su una superficie del substrato e su un photoresist negativo che è ricoperto ad uno spessore predeterminato sul substrato su cui l'elemento riscaldante è formato. Dopo, una parte, che forma un muro laterale di un passaggio dell'inchiostro che forma la parete che circonda un alloggiamento dell'inchiostro e un limitatore, del photoresist negativo a livello è esposta a luce e si cura usando un primo photomask in cui i modelli dell'alloggiamento dell'inchiostro e del limitatore del passaggio dell'inchiostro sono formati. Successivamente, una seconda parte che forma una parete superiore del passaggio dell'inchiostro che forma la parete del photoresist negativo è esposta alla luce usando un secondo photomask in cui il modello di un ugello è formato ed alla seconda parte è esposta alla luce soltanto da uno spessore predeterminato. Duri, una parte fresca del photoresist negativo è dissolta e rimossa usando il solvente. Un printhead del getto di inchiostro di cui gli elementi sono costituiti monolitico da un processo semplificato usando un singolo photoresist negativo può essere manufactured.

 
Web www.patentalert.com

< Method of manufacturing organic EL element, organic EL element, and organic EL display device

< Jet print apparatus and method for printed circuit board manufacturing

> Organic EL device and method of manufacturing organic EL device

> Manufacturing method for an electron-emitting source of triode structure

~ 00120