An exposure method, wherein a defocus quantity on the surface of a
substrate to be exposed with respect to an image plane of a projection
optical system is detected highly accurately even during exposing without
lowering throughput much and focusing is made with an automatic focusing
method. A first oblique-incident AF sensor including an illumination slit
unit (54a) through an optical member (63a) and a second oblique-incident
AF sensor including an illumination slit unit (54b) through an optical
member (63b) are used to apply slit images (F1f, F2f) onto common
measuring points and focus positions are measured respectively. One half
of the difference between the two measured values is regarded as a drift
and the drift is corrected for values measured by the AF sensors; the
first or second AF sensor is then used to perform a focusing by the
automatic focusing method.
Um método da exposição, wherein uma quantidade do defocus na superfície de uma carcaça a ser exposta com respeito a um plano de imagem de um sistema ótico da projeção é detectada altamente exatamente mesmo durante expo sem abaixar o throughput muito e o focalizar é feito com um método focalizando automático. Um primeiro sensor do AF do oblique-oblique-incident including uma iluminação cortou a unidade (54a) através de um membro ótico (63a) e um segundo sensor do AF do oblique-oblique-incident including uma unidade da régua da iluminação (54b) através de um membro ótico (63b) é usado aplicar as imagens da régua (F1f, F2f) em pontos de medição comum e em posições do foco é medido respectivamente. Uma metade da diferença entre os dois valores medidos é considerada enquanto uma tração e a tração são corrigidas para os valores medidos pelos sensores do AF; o primeiro ou segundo sensor do AF é usado então executar focalizar pelo método focalizando automático.
