A lithographic illuminator to illuminate a reticle to be imaged with a
range of angles is provided. The illumination can be employed to generate
a pattern in the pupil of the imaging system, where spatial coordinates in
the pupil plane correspond to illumination angles in the reticle plane. In
particular, a coherent synchrotron beamline is used along with a
potentially decoherentizing holographic optical element (HOE), as an
experimental EUV illuminator simulation station. The pupil fill is
completely defined by a single HOE, thus the system can be easily modified
to model a variety of illuminator fill patterns. The HOE can be designed
to generate any desired angular spectrum and such a device can serve as
the basis for an illuminator simulator.
Eine lithographische Belichtungseinheit zum Belichten einen Reticle, um mit einer Strecke der Winkel abgebildet zu sein wird zur Verfügung gestellt. Die Ablichtung kann eingesetzt werden, um ein Muster in der Pupille des Belichtung Systems zu erzeugen, in dem räumliche Koordinaten in der Pupillefläche Ablichtung Winkeln in der Reticlefläche entsprechen. Insbesondere wird ein zusammenhängendes Synchrotron beamline zusammen mit einem möglicherweise decoherentizing ganz eigenhändig geschrieben optischen Element (HACKE), wie eine experimentelle EUV Belichtungseinheit Simulation Station verwendet. Die Pupillefülle wird vollständig durch eine einzelne HACKE definiert, so kann das System leicht geändert werden, um eine Vielzahl der Belichtungseinheit Füllemuster zu modellieren. Die HACKE kann entworfen werden, um jedes gewünschte eckige Spektrum zu erzeugen und solch eine Vorrichtung kann wie die Grundlage für einen Belichtungseinheit Simulator dienen.
