A reconfigurable and stationary element for the engineering of the
wavefront of electromagnetic radiation. The element includes a phase
change material that may be reversibly transformed between its crystalline
and amorphous states. By forming a gradient in crystallinity, a phase
taper may be stored in the phase change material of the instant element.
The phase taper provides control of the phase angle of reflected or
reradiated electromagnetic radiation. An incident wavefront of
electromagnetic radiation interacts with the instant element and is
reradiated with controlled propagation characteristics imposed by the
stored phase taper. The instant element may provide non-specular
reflection, beam steering, focusing, defocusing, symmetrical and
asymmetrical cross section effects, and wavefront correction. In a
preferred embodiment, a pattern of amorphous marks is formed within a
crystalline matrix of phase change material. By controlling the size,
shape, spacing, symmetry and distribution of marks, crystallinity
gradients of various strengths in one or more directions may be formed to
provide phase tapers that effect the engineering of wavefronts. An
apparatus for forming patterns of marks included in the instant element is
also provided.
Ein reconfigurable und stationäres Element für die Technik des Wavefront der elektromagnetischen Strahlung. Das Element schließt ein Phase Änderung Material ein, das zwischen seinen kristallenen und formlosen Zuständen umkehrbar umgewandelt werden kann. Indem man eine Steigung in der Kristallinität bildet, kann ein Phase Kegelzapfen im Phase Änderung Material des sofortigen Elements gespeichert werden. Der Phase Kegelzapfen liefert Steuerung des Phase Winkels von reflektiert oder reradiated elektromagnetische Strahlung. Ein Ereignis Wavefront der elektromagnetischen Strahlung wirkt auf sofortiges Element ein und ist reradiated mit den kontrollierten Ausbreitungeigenschaften, die durch den gespeicherten Phase Kegelzapfen auferlegt werden. Sofortiges Element kann nicht-non-specular Reflexion, Lichtstrahlsteuerung, Fokussierung, Defocusing, symmetrische und asymetrische Querschnitteffekte und Wavefrontkorrektur zur Verfügung stellen. In einer bevorzugten Verkörperung wird ein Muster der formlosen Markierungen innerhalb einer kristallenen Matrix des Phase Änderung Materials gebildet. Indem man die Größe, Form, Abstand, Symmetrie und Verteilung der Markierungen, Kristallinitätsteigungen der verschiedenen Stärken steuert in, können einer oder mehr Richtungen gebildet werden, um Phase Kegelzapfen zur Verfügung zu stellen, die die Technik von Wavefronts bewirken. Ein Apparat für die Formung der Muster der Markierungen, die im sofortigen Element eingeschlossen sind, wird auch zur Verfügung gestellt.
