The present invention provides a beam monitoring sensor which can offer
both high beam monitoring precision and high speed monitoring in a
multi-electron beam writing system and a monitoring method using the same.
In a Faraday cup for electron beam monitoring, tantalum or a heavy metal
material having an atomic number larger than that of tantalum is used to
provide a Faraday cup construction having a high aspect ratio. The micro
Faraday cup permits electron beam monitoring having less beam leak to a
high acceleration electron beam.
De onderhavige uitvinding verstrekt een straal controlesensor die zowel hoge straal controleprecisie als hoge snelheid controle in een multi-elektronenstraal het schrijven systeem en een controlemethode kan aanbieden gebruikend het zelfde. In een kop van Faraday voor elektronenstraal controle, worden het tantalium of een zwaar metaalmateriaal dat een atoomaantal groter heeft dan dat van tantalium gebruikt om een de kopbouw te verstrekken die van Faraday een hoge aspectverhouding heeft. De micro- kop van Faraday laat elektronenstraal toe controlerend hebbend minder straallek aan een hoge versnellingselektronenstraal.
