Apparatus and method for utilizing recirculated exhaust gas in
semiconductor manufacturing system, in a manner substantially reducing the
effluent burden on the exhaust treatment system and infrastructure of the
semiconductor process facility.
Aparato y método para utilizar el gas de escape recirculado en sistema de fabricación del semiconductor, de una manera que reduce substancialmente la carga efluente en el sistema de tratamiento del extractor y la infraestructura de la facilidad del proceso del semiconductor.
