A mask, and a method for fabricating the mask, for optically transcribing a
pattern corresponding to integrated circuits on a semiconductor substrate
by using an exposure device. The mask has a plurality of features
corresponding to circuit elements with at least one recessed corner
defined by two edges. The mask includes a plurality of proximity
correcting auxiliary features, each having two extension parts which
extend in parallel along and spaced away from each of two edges defining a
recessed corner. The extension parts are bent at a same angle
corresponding to the recessed corner, to be connected to each other. The
proximity correcting auxiliary features have polygonal shapes having
predetermined widths. Since polygonal auxiliary features are provided
corresponding to the recessed corner, auxiliary features are symmetrically
maintained, reducing a number of auxiliary features. The amount of data
representing the whole mask pattern can thus be reduced.
Uma máscara, e um método para fabricar a máscara, para ótica transcrever um teste padrão que corresponde aos circuitos integrados em uma carcaça do semicondutor usando um dispositivo da exposição. A máscara tem um plurality das características que correspondem aos elementos do circuito com ao menos o um canto recessed definido por duas bordas. A máscara inclui um plurality da proximidade que corrige características auxiliares, cada uma que tem duas peças da extensão que estendem na paralela longitudinalmente e espaçado afastado de cada uma de duas bordas que definem um canto recessed. As peças da extensão são dobradas em um mesmo ângulo que corresponde ao canto recessed, separa ser- conectado. A proximidade que corrige características auxiliares tem as formas polygonal que predeterminam larguras. Desde que as características auxiliares polygonal são corresponder fornecido ao de canto recessed, as características auxiliares são mantidas simetricamente, reduzindo um número de características do auxiliar. A quantidade de dados que representam o teste padrão de máscara inteiro pode assim ser reduzida.
